Characterization of Ti–Zr–V thin films deposited by DC and unipolar pulsed DC magnetron sputtering
- 点击次数：
- 影响因子：3.627
- DOI码：10.1016/j.vacuum.2021.110200
- 发表刊物：Vacuum
- 合写作者：Yonghao Gao, Haibin Pan, Yong Wang
- 第一作者：Sihui Wang
- 论文类型：期刊论文
- 通讯作者：Wei Wei
- 论文编号：WOS:000649680500004
- 学科门类：工学
- 一级学科：材料科学与工程
- 文献类型：J
- 卷号：188
- 页面范围：110200
- 是否译文：否
- 发表时间：2021-06-01
- 收录刊物：SCI、EI
