何世文
Two-stage visible watermark removal architecture based on deep learning
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发表刊物:IET Image Processing
合写作者:Shiwen He (Corresponding Author), Hufei Yu, Yaoxue Zhang
第一作者:Pei Jiang
论文类型:期刊论文
学科门类:工学
一级学科:计算机科学与技术
文献类型:J
卷号:14
期号:15
页面范围:3819-3828
是否译文:否
发表时间:2020-12-31
收录刊物:SCI、EI