A comparative research on magnetron sputtering and arc evaporation deposition of Ti–Al–N coatings
发布时间：2018-05-12
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发表刊物：Thin Solid Films
备注：陈利-2011
合写作者：M.J. Wu, J.R. Li, Y. Du, K.K. Chang, L. Chen*
文献类型：J
卷号：519
期号：11
页面范围：3762-3767
是否译文：否
发表时间：2011-03-31