Characterization of Ti–Zr–V thin films deposited by DC and unipolar pulsed DC magnetron sputtering
发布时间：2021-07-12
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影响因子：3.627
DOI码：10.1016/j.vacuum.2021.110200
发表刊物：Vacuum
合写作者：Yonghao Gao, Haibin Pan, Yong Wang
第一作者：Sihui Wang
论文类型：期刊论文
通讯作者：Wei Wei
论文编号：WOS:000649680500004
学科门类：工学
一级学科：材料科学与工程
文献类型：J
卷号：188
页面范围：110200
是否译文：否
发表时间：2021-06-01
收录刊物：SCI、EI