探地雷达自聚焦并行掩膜后向投影成像方法、设备及介质,王义为
发布时间:2022-12-20
点击次数:
专利类型:发明
专利状态:授权专利
授权号:ZL202210992032.9
发明人数:8
是否职务专利:是
申请日期:2022-08-18
公开日期:2022-09-18
授权日期:2022-10-28
探地雷达自聚焦并行掩膜后向投影成像方法、设备及介质,王义为
发布时间:2022-12-20
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专利类型:发明
专利状态:授权专利
授权号:ZL202210992032.9
发明人数:8
是否职务专利:是
申请日期:2022-08-18
公开日期:2022-09-18
授权日期:2022-10-28