孙健

教授 博士生导师 硕士生导师

入职时间:2018-05-14

所在单位:物理学院

学历:博士研究生毕业

办公地点:新校区数理楼物理学院336室

学位:博士学位

在职信息:在职

学科:物理学
电子科学与技术

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Hydrogen Intercalation: An Approach to Eliminate Silicon Dioxide Substrate Doping to Graphene

发布时间:2018-07-03

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发表刊物:Applied Physic Express

合写作者:H. Mizuta, M. Muruganathan, M. Akabori, T. Chikuba, N. Kanetake, J. Sun*, T. Iwasaki

卷号:8

页面范围:015101

是否译文:

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