Modeling and simulation of an industrial falling film evaporator for alumina production
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- 影响因子:3.35
- 发表刊物:Chemical Engineering Research and Design
- 合写作者:熊盼, 孙凯旋, 谢永芳
- 第一作者:王晓丽
- 论文类型:期刊论文
- 通讯作者:阳春华
- 学科门类:控制科学与工程
- 卷号:154
- 页面范围:303-315
- 是否译文:否
- 发表时间:2020-02-03
- 收录刊物:SCI